Anfrage fur ein Angebot

Technische Artikel

Park SmartScan und AutoScript: Verbesserung des operativen Durchsatzes und der Benutzerproduktivität

Die Rasterkraftmikroskopie (RKM) wurde ursprünglich in den 80er Jahren entwickelt, wobei der erste Einsatz mit veröffentlichten Experimenten im Jahre 1986 erfolgte. RKM basiert auf der Verwendung eines Cantilevers mit einer scharfen Sondenspitze mit einer durchschnittlichen Radiuskrümmung von mehreren Nanometern, der über die Oberfläche einer Probe rastert. Die Auslenkung und Bewegung des Cantilevers beim Rastern der Probenoberfläche werden aufgezeichnet und dann in einem computergenerierten Bild wiedergegeben.

Weiterlesen ...

Non-Kontakt Bildgebung verschiedener Proben

Für viele Anwendungen, wie zum Beispiel die Herstellung von Halbleiterbauelementen und die Überwachung von biologischen Proben, ist es notwendig, Oberflächenfeatures zu messen. Es gibt einige Rasterkraftmikroskopie-Techniken, die zur Messung der Proben-Topografie verwendet werden können. Beispiele hierfür sind der Tappping- und der Kontakt-Modus. Diese Modi erfordern eine Wechselwirkung zwischen der Sonde und der Probe, die zur Beschädigung der Probe und zur Abnutzung der Sonde führen können. Insbesondere für Proben, die empfindlich gegen Oberflächenverformung sind, ist es notwendig, die Oberflächentopografie ohne Berühren der Probenoberfläche zu bestimmen.

Weiterlesen ...

Die Untersuchung von Haarschädigung durch Sonnenlicht mittels Rasterkraftmikroskopie

Sonnenschutzprodukte wie Hüte, Sonnencreme und Kleidung werden häufig verwendet, um Hautreizungen und Schäden zu verhindern. Zum Schutz von Haaren gibt es nur wenige Produkte. Wir haben die Effekte des Sonnenlichts auf das Haar untersucht, um die Frage zu beantworten, ob solche Produkte von Interesse wären, insbesondere für Menschen mit hellen, weniger fotostabilen Haaren. Haare wurden mit dem Park NX20 Rasterkraftmikroskop (RKM) und dem Auto-Modus der benutzerfreundlichen Park SmartScan Software abgebildet, um ihre Topografie im Nanometerbereich vor und nach längerer Sonneneinstrahlung zu vergleichen.

Weiterlesen ...

Ultrahochauflösende Rasterkraftmikroskopie

Das Ziel aller Formen der Mikroskopie ist die Beobachtung von immer kleineren Objekten und deren Details und Eigenschaften, die nicht mit dem bloßen Auge beobachtet werden können. Der wissenschaftliche Fortschritt verlangt, dass wir stets die absoluten Grenzen der verfügbaren Messverfahren testen. Rasterkraftmikroskopie (RKM) ist da keine Ausnahme. Mittels RKM lassen sich Aufnahmen mit Probenfeatures im Nanometerbereich erstellen. Man spricht bei solchen Aufnahmen von "atomarer Auflösung".

Weiterlesen ...

Schnelle Bildgebung mit dem Park NX10 Rasterkraftmikroskop

Die Rasterkraftmikroskopie hat es Wissenschaftlern in der Forschung und in der Industrie ermöglicht, hochauflösende Messungen und Bildgebung im Nanometerbereich durchzuführen, allerdings mit einer relativ langsamen Bildgebungsgeschwindigkeit. Für bestimmte Anwendungen wie Kristallkeimbildung und -wachstum, Materialtransport und Protein-Selbstorganisation [1-3] ist es wichtig, die topografischen Veränderungen und den Partikeltransport zu verfolgen.

Weiterlesen ...

Wafer-Defekte können vor Park-Systems nicht verborgen werden

Halbleiterhersteller haben die Möglichkeit zur Defekt-Überprüfungen wenn einmal die Prüfwerkzeuge potenzielle Defekte auf bloßen Silizium-Wafern identifiziert haben. Bei herkömmlichen AFM verlangsamt sich der Prozess durch datenreiche 3D-Bilder, im Vergleich zu 2D, SEM-basierten Techniken. Ein neuer AFM-Prozess entwickelt von Park Systems, ändert diesen Ausgleich, wie bisher kein Anderer.

Park Systems (Suwon, Südkorea und Santa Clara, Kalifornien, USA) ist einer der führenden Pioniere in der Rasterkraftmikroskopie (AFM) für Halbleiterhersteller und Forscher. Der Gründer des Unternehmens (Sang-Il Park, PhD) führte bereits früh jegliche Bemühungen durch um die Technologie zu vermarkten, nachdem er ein integraler Bestandteil des AFM-Entwicklungsteams an der Stanford University, in den 1980er Jahren, war.

Park Systems machte die extrem hochauflösenden 3D-Bilder der AFM wirtschaftlich praktischer, indem sie sich auf die Entwicklung von Produkten und Software für die Messung der Oberflächenrauheit in Festplatten-Medien fokussiert haben und damit einen Industriestandard (die Park HDM Produktfamilie) erschaffen haben. Park’s AFM Produkte sind auch alle "Non-Contact" Anwendungen, wodurch die Wahrscheinlichkeit der Werkzeugerklärungen eliminiert wird, dass beispielsweise versehentlich die Oberflächen von Wafern berührt oder sogar beschädigt wird.

Weiterlesen ...